Desenvolvimento de processo para enriquecimento de superfície através da aditivação de titânio por mecanismo de sputtering
The objective of this work was to develop an equipment to enrich the surface of a metallic substrate by vaporizing titanium atoms in a sputtering process. This process aims to bring a new method of performance improvement of low-cost materials in applications where it is required high hardness and/o...
| Autor principal: | Oliveira, Cesar Ricardo |
|---|---|
| Formato: | Trabalho de Conclusão de Curso (Graduação) |
| Idioma: | Português |
| Publicado em: |
Universidade Tecnológica Federal do Paraná
2020
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: |
http://repositorio.utfpr.edu.br/jspui/handle/1/10581 |
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